磁化同軸ガンによる合金薄膜高速生成法の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-25

グループ名: 【A】平成24年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/20

著者名: 高津幹夫 (日本大学),山崎翠 (日本大学),宮本靖孝 (日本大学),浅井朋彦 (日本大学),鈴木薫 (日本大学),西宮伸幸 (日本大学),板垣宏知 (東京大学),小口治久 (産業技術総合研究所)

キーワード: PVD| 合金薄膜| 電磁加速| 膜厚制御

要約(日本語): これまで有効な方法を確立していなかった高融点金属材料の高速成膜方法について、磁化同軸プラズマガンを応用した方法を提案した。この手法では、磁化同軸プラズマガンの中心電極に対象となる材料を用いることで、比較的高融点の材料にも対応でき、また、イオン化された金属のみを電磁加速することで、溶発した金属が膜に混入することを避けられる他、パルス数で膜厚を制御できることから、幅広い応用が期待できる。

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