1
/
の
1
アモルファスWO3薄膜のEC特性に対するイオンビーム照射効果
アモルファスWO3薄膜のEC特性に対するイオンビーム照射効果
通常価格
¥440 JPY
通常価格
セール価格
¥440 JPY
単価
/
あたり
税込
カテゴリ: 部門大会
論文No: P-28
グループ名: 【A】平成24年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集
発行日: 2012/09/20
著者名: 鈴木大夢 (工学院大学),鷹野一朗 (工学院大学)
キーワード: WO3| EC特性| イオンビーム
要約(日本語): 本研究ではイオンビームにより表面を微細加工したアモルファスWO3薄膜のEC特性について報告する。薄膜試料はマルチプロセスコーティング装置を用い、反応性スパッタリング法で作製した後、薄膜にイオンビームを照射した。Ar+イオンビームを照射した試料の透過率は分光光度計で測定した結果、イオンビーム未照射の試料に比べ低下した。これは照射したイオンビームが薄膜のWとOをスパッタしWO3の酸素欠損が生成されたためと思われる。
PDFファイルサイズ: 827 Kバイト
受取状況を読み込めませんでした
