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アモルファスWO3薄膜のEC特性に対するイオンビーム照射効果

アモルファスWO3薄膜のEC特性に対するイオンビーム照射効果

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カテゴリ: 部門大会

論文No: P-28

グループ名: 【A】平成24年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/20

著者名: 鈴木大夢 (工学院大学),鷹野一朗 (工学院大学)

キーワード: WO3| EC特性| イオンビーム

要約(日本語): 本研究ではイオンビームにより表面を微細加工したアモルファスWO3薄膜のEC特性について報告する。薄膜試料はマルチプロセスコーティング装置を用い、反応性スパッタリング法で作製した後、薄膜にイオンビームを照射した。Ar+イオンビームを照射した試料の透過率は分光光度計で測定した結果、イオンビーム未照射の試料に比べ低下した。これは照射したイオンビームが薄膜のWとOをスパッタしWO3の酸素欠損が生成されたためと思われる。

PDFファイルサイズ: 827 Kバイト

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