NLDプラズマの解析（XXVI）―エッチャント生成・基板入射特性の気圧依存性―

カテゴリ: 部門大会

論文No: 12-B-a1-5

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 浅見勇介 (北海道大学),菅原広剛 (北海道大学),村山明宏 (北海道大学)

キーワード: NLDプラズマ| モンテカルロシミュレーション| エッチング| 磁界| ラジカル

要約(日本語): エッチング反応種大量生成を目指し、高圧条件下でＮＬＤプラズマの諸特性を解析した。電子・イオンにより形成される電位分布を電子軌道計算で考慮した。ＲＦアンテナ付近の強電界域に形成される正の空間電位に電子が引き付けられ、ラジカル生成位置は従来の低圧条件下よりも零磁界領域からアンテナ側に移動した。実際のプロセスで用いられるバイアスを計算モデルに新たに導入し、ラジカル・イオンの基板入射特性を調査した。

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