低コヒーレンス干渉計を用いたプラズマプロセス中のウエハ温度モニタリング技術の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 12-B-a2-4

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 太田貴之 (名城大学),堤隆嘉 (名古屋大学),竹田圭吾 (名古屋大学),石川健治 (名古屋大学),堀勝 (名古屋大学),伊藤昌文 (名城大学)

キーワード: 低コヒーレンス干渉計| プラスマプロセス| 温度

要約(日本語): 半導体デバイスの微細化，低コスト化に伴い，プラズマエッチングなどのプロセス制御技術の高度化が求められている．我々は，低コヒーレンス光干渉計を用いて，ウエハ温度を非接触で正確にモニタリングする技術を開発した．本発表では，その原理とプラズマプロセス中での実証実験結果について報告する．

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