磁場－パルスプラズマ援用CVDを用いた環境セル型透過電子顕微鏡用アモルファスSiCN隔膜の作製とその評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: 12-F-p-1

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 山﨑佳代 (近畿大学),松谷貴臣 (近畿大学),中野人志 (近畿大学),崔子鵬 (名古屋大学),川﨑忠寛 (名古屋大学)

キーワード: 環境セル| 隔膜| 磁場-パルスプラズマ援用CVD| 透過型電子顕微鏡| アモルファスSiCN

要約(日本語): 近年，触媒や生体試料など，雰囲気ガスを必要とする高分解能その場観察を実現するため，環境セル型透過電子顕微鏡の開発が試みられている。環境セルには，光源である電子線を透過し，かつ環境セル内の反応ガスを封じる窓(隔膜)が必要となる。本研究では，成膜速度が速く，被覆性に富む，磁場－パルスプラズマ援用化学気相成長法を用いて，電子線の散乱が少ない軽元素で構成され，回折コントラストのない，高強度なアモルファスSiCN 隔膜を開発し，その特性評価を行ったので報告する。

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