低エネルギー窒素イオン照射を用いたPTFEの表面改質―改質層深部の改質による接着力向上―

カテゴリ: 部門大会

論文No: 13-D-a-8

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 高田輝努 (東京都市大学),岩尾徹 (東京都市大学),湯本雅恵 (東京都市大学)

キーワード: PTFE| XPS| 接着力| イオン照射| 表面改質| 窒素

要約(日本語): 現在プリント基板材料の代替材料として，高周波低損失特性を持つPTFEが注目されている。しかしPTFEは接着力が弱いため親水性向上や凹凸を形成する表面改質と，崩壊型高分子であることから崩壊を防ぐために架橋構造の導入が必要となる。そこで，低エネルギーの窒素イオンを照射する表面改質を行ったところ，接着力を向上させるためには表面付近だけでなく改質層深部へ改質を行う必要があるということを確認した。

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