大気圧ヘリウムプラズマジェットにより生成されるO、OHラジカルの照射表面近傍における挙動

カテゴリ: 部門大会

論文No: 12-P-6

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 米森星矢 (東京大学),小野亮 (東京大学)

キーワード: 大気圧プラズマジェット| O原子OHラジカル| OHラジカル| レーザー誘起蛍光法

要約(日本語): 大気圧ヘリウムプラズマジェットは、がん治療などの新たなプラズマ応用が可能だとして注目を集めている。本研究では、大気圧ヘリウムプラズマジェットがラット表皮に進展する際の、表面近傍におけるO、OHラジカルの密度分布を計測した。その結果、表面近傍におけるO、OHラジカルの密度は放電パルス間でほとんど変化せず、照射対象表面と緩やかに反応することが明らかになった。

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