磁性ナノ粒子を用いた遺伝子導入法とその導入効率における交流磁場の影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 12-P-15

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 清野貴史 (横浜国立大学),大多哲史 (横浜国立大学),高橋慶行 (横浜国立大学),冨高あさひ (University of Washington),上大介 (京都府立医科大学),渡邉昌俊 (横浜国立大学),山田努 (横浜国立大学),竹村泰司 (横浜国立大学)

キーワード: 磁性ナノ粒子| 遺伝子導入| 磁場勾配

要約(日本語): 近年、iPS細胞が再生医療の実現を可能にするとして注目されている。iPS細胞の実用には遺伝子導入技術の向上が不可欠である。現在、遺伝子導入にはいくつかの方法が存在するが、本研究では磁性ナノ粒子をDNA輸送媒体として用いる方法に注目した。直流磁場と交流磁場を用いることで導入効率の向上を確認した。

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