水蒸気添加大気圧ヘリウムプラズマ中で生成される化学的活性種濃度に関する数値解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 13-B-a2-5

グループ名: 【A】平成25年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2013/09/12

著者名: 小田昭紀 (千葉工業大学),坂下准哉 (千葉工業大学)

キーワード: 大気圧プラズマ| ヘリウム| 水蒸気| 流体モデル| シミュレーション| ＯＨラジカル

要約(日本語): 非平衡大気圧プラズマと水界面で起こる現象を理解することは、上下水処理を中心とした環境分野などの様々な工学的応用を考える上で重要である。この現象を利用した応用には、プラズマを通じて界面で生成されたＯＨラジカルが重要な役割を担う。本報告では、流体モデルに基づくシミュレーションにより、水蒸気添加された大気圧ヘリウムプラズマで生成されるＯＨラジカル濃度の外部条件依存性を解析したので、その結果を報告する。

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