イオン照射を用いたPTFEの接着力向上－接着力向上に寄与する接着界面の結合状態の検証－

カテゴリ: 部門大会

論文No: 22-D-a1-4

グループ名: 【A】平成26年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2014/08/21

著者名: 高田輝努 (東京都市大学),岩尾徹 (東京都市大学),湯本雅恵 (東京都市大学)

キーワード: イオン照射| 接着力| PTFE| XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)| 剥離強度| 接着界面

要約(日本語): PTFE（テフロン）は化学的安定性や優れた誘電特性から高周波プリント基板材料として注目されている。ところが，配線材との接着が困難という問題がある。そこで，著者らは2000 eV程度のイオンを照射することでPTFEの接着力を改善し，剥離強度が1500 N/mの強力な接着力が得られると報告してきた。本報告では， PTFEとエポキシ接着剤との界面の結合状態に着目し接着力向上要因を探ることを目的とする。

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