電磁加速法を用いた高融点金属薄膜の生成

カテゴリ: 部門大会

論文No: 21-F-pP-28

グループ名: 【A】平成26年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2014/08/21

著者名: 加藤達也 (日本大学),浅井朋彦 (日本大学),平塚傑工 (ナノテック),高津幹夫 (平和電機)

キーワード: 電磁加速法

要約(日本語): 磁化同軸プラズマガンは,放電電流と自己磁場とのローレンツ力によりプラズモイドを電磁加速するため,スパッタされた電極材料のうち,電離したものを選択的に射出でき,また基板へのイオンの入射エネルギーを制御することが可能である.さらに,パルス周期を制御することで基板への熱負荷を低減可能である.本成膜法の特徴を活かした応用を検討するため,高融点金属薄膜を生成し,成膜速度,付着強度などの特性を評価する.

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