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電解めっき法により作製したFe-Ni厚膜の磁気特性

電解めっき法により作製したFe-Ni厚膜の磁気特性

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 21-B-a2-1

グループ名: 【A】平成26年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2014/08/21

著者名: 柳井武志 (Nagasaki University),渡邊佳正 (Nagasaki University),大坪将貴 (Nagasaki University),白石洸太郎 (Nagasaki University),中野正基 (Nagasaki University),福永博俊 (Nagasaki University)

キーワード: 電解めっき| 軟磁性Fe-Ni| Fe-Ni

要約(日本語): Fe-Ni合金は優れた軟磁性材料として広く知られており,優れた軟磁気特性を有するFe-Ni膜はセンサのコア材料や磁気シールド材料としての応用が期待される。本稿では,成膜速度が速い電解めっき法を用い,数十ミクロン厚のFe-Ni膜の磁気特性を報告する。

PDFファイルサイズ: 97 Kバイト

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