パルス大強度相対論的電子ビーム照射による抗生物質処理の評価に向けた放射線量計測

カテゴリ: 部門大会

論文No: 22-A-a2-6

グループ名: 【A】平成26年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2014/08/21

著者名: 皆川勇 (長岡技術科学大学),古澤雅史 (長岡技術科学大学),泉信之助 (長岡技術科学大学),高橋一匡 (長岡技術科学大学),佐々木徹 (長岡技術科学大学),菊池崇志 (長岡技術科学大学),原田信弘 (長岡技術科学大学),今田剛 (新潟工科大学),森脇洋 (信州大学)

キーワード: 大強度パルスパワー装置| パルス大強度相対論的電子ビーム| 抗生物質| 放射線量| 電子ビーム| OHラジカル

要約(日本語): 抗生物質を効率的に分解し、薬剤性を除去する方法として、電子ビーム、OHラジカルなどの複合処理が期待されるパルス大強度相対論的電子ビーム(PIREB)を用いた方法が検討されている。これまでにPIREB照射は抗生物質の分解に対して有効であることが確認されたが、処理効果とPIREBの放射線量の関係は評価されていない。本研究では、PIREB照射による抗生物質処理の評価に向けて、大強度パルスパワー装置を用いたPIREB照射による抗生物質の変化を検討し、その際の放射線量を計測した。

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