高電界下におけるプリント基板のマイグレーション特性Ⅱ－ハロゲンフリー基板適用時の伸展経路について－

カテゴリ: 部門大会

論文No: 18-A-p1-1

グループ名: 【A】平成27年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2015/09/17

著者名: 山城啓輔 (富士電機),華表宏隆 (富士電機),高野哲美 (富士電機),長谷川知貴 (富士電機),江後田和巳 (富士電機),岡本健次 (富士電機)

キーワード: イオンマイグレーション| ハロゲンフリー| プリント基板| 絶縁材料| フィラー・充填剤| CAF(Conductive Anodic filaments)

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