pH緩衝材を用いた溶液プロセスによるNi-Znフェライト薄膜の作製とGHz帯域伝導ノイズ抑制特性

カテゴリ: 部門大会

論文No: 18-B-a2-1

グループ名: 【A】平成27年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2015/09/17

著者名: 田中優志 (東京工業大学),渡邉哲朗 (東京工業大学),清野裕斗 (東京工業大学),勝又健一 (東京工業大学),松下伸広 (東京工業大学)

キーワード: 溶液プロセス| pH緩衝材| フェライト膜| 軟磁気特性| 伝導ノイズ抑制

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