TMS vapourおよびTEOS vapour中の電子輸送解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 5-E-p2-1

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: 川口 悟(室蘭工業大学),高橋 一弘(室蘭工業大学),佐藤 孝紀(室蘭工業大学),伊藤 秀範(室蘭工業大学)

キーワード: TMS|TEOS|Monte Carlo simulation|電子スオーム法

要約(日本語): Monte Carlo simulationを用いた電子スオーム法によってTMS蒸気およびTEOS蒸気の電子衝突断面積セットを推定した。推定した電子衝突断面積セットを用いて得られた電子ドリフト速度，電離係数および縦方向拡散係数の値は広範囲の換算電界で実測値と一致することが確認された。さらに，TEOS/O2混合ガス中でも電子輸送解析を行い，得られた電離係数の値が実測値に近い値となることが確認された。

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