Si基板上Nd-Fe-B系厚膜磁石の諸特性と微細加工

カテゴリ: 部門大会

論文No: 6-B-a2-2

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: 清水 大(長崎大学),竹馬 雄(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),藤原 良元(東京工業大学),進士 忠彦(東京工業大学),福永 博俊(長崎大学)

キーワード: Nd-Fe-B|PLD(Pulsed Laser Deposition)法|Si|微細加工

要約(日本語): MEMS技術への応用を鑑み，数10 μm/hの成膜速度を有するPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い，Si基板への等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の成膜を試みた.Si基板上の熱酸化膜の有無が磁気特性ならびに機械特性に及ぼす影響を検討すると共に，熱酸化膜付きSi基板上の厚膜磁石に微細加工を施した際の諸特性を評価した結果を報告する．

PDFファイルサイズ: 515 Kバイト