めっき法により作製したFe-Ni膜に与える電流密度の影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 6-B-a2-5

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: 江口 和樹(長崎大学),幸田 一輝(長崎大学),杉原 健太(長崎大学),秋吉 俊貴(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

キーワード: 電気めっき|Fe-Ni|軟磁性材料

要約(日本語): 本研究室では，磁気センサなど小型磁気デバイスへの軟磁性膜の応用を鑑み，クエン酸浴から作製したFe-Ni電析膜に関して検討を重ねてきた。現在までに20 ?m厚程度のFe-Ni電析膜にて30 A/m程度の低保磁力な軟磁性膜を実現している。本研究では, めっき電流密度を変化させることにより, 組成・磁気特性分布の改善並びに低保磁力化に関する検討を行ったのでその結果を報告する。

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