高周波バイアスを用いた誘導結合型プラズマシミュレーション

カテゴリ: 部門大会

論文No: 5-D-a1-2

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: トン リチュ(計測エンジニアリングシステム)

キーワード: ICPプラズマ|高周波 (RF) バイアス|流体モデル

要約(日本語): 高周波 (RF) バイアスは高密度プラズマ中の材料表面に入射するイオンのエネルギーを独立で制御できる為，RFバイアスを用いた誘導結合型プラズマ (ICP) の開発が注目されている。数値手法としてプラズマにおけるコイルによる誘導磁場は周波数領域，荷電粒子の輸送は時間領域での計算が利用されている。本研究は，周波数領域と時間領域の連成計算に対してCOMSOL Multiphysicsによるモデリング手法を紹介し，RFバイアスを用いた誘導結合型プラズマ(ICP)を解析する。

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