環境セル型透過電子顕微鏡用a-SiCN隔膜への窒素プラズマ照射による効果

カテゴリ: 部門大会

論文No: 5-P-9

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: 村野 正典(近畿大学),松谷 貴臣(近畿大学),川崎 忠寛(ファインセラミックスセンター)

キーワード: 環境セル型透過電子顕微鏡|隔膜|a-SiCN|磁場・パルスプラズマ援用化学気相成長法|窒素プラズマ|薄膜化

要約(日本語): 環境セル型透過電子顕微鏡（E-TEM）用隔膜の開発として、磁場パルスプラズマ援用化学気相成長法を用いたアモルファス窒炭化ケイ素（a-SiCN）隔膜の作製を試みている。隔膜は、試料室内のガスを封じきり、かつ光源である電子線を損失させることなく透過する必要がある。今回、E-TEMの高分解能実現のため、隔膜の平坦化および極薄膜化を目的に、作製した隔膜への窒素プラズマ照射の影響について評価を行った。

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