N2/Ar混合ガス雰囲気下におけるペニング型ハイパワーパルススパッタ成膜における空間依存性

カテゴリ: 部門大会

論文No: 5-P-13

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: 楠橋 悠真(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

キーワード: ハイパワーパルススパッタリング|ペニング放電|チタンプラズマ|成膜速度

要約(日本語): ペニング型ハイパワーパルススパッタリング装置は磁場と電場が平行になるよう裏面に磁石を配置した一対のターゲット陰極間に高電圧パルスを印加し薄膜を生成する成膜装置である。この装置は、高電圧パルスによりターゲット陰極間に高密度プラズマを発生させることで、基板に金属イオンを供給し、薄膜を生成する。本研究では、ターゲットと基板間の距離を変化させることでスパッタ成膜における空間依存性を観測した。

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