MOD法を用いてガラス基板上に作製したCoフェライト薄膜の評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: 5-P-35

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

著者名: 目黒 燎(長岡技術科学大学),久保田 大志(長岡技術科学大学),柳原 英人(筑波大学),喜多 英治(筑波大学),石橋 隆幸(長岡技術科学大学)

キーワード: 磁性|フェライト|歪み

要約(日本語): 有機金属分解法を用いてガラス基板上にCoフェライト薄膜を作製し、評価を行った。膜厚約100 nmの多結晶のCoフェライト薄膜が得られた。磁化測定の結果から、Ms =約270 emu/cc、Hc =約7 kOeを示すことがわかった。この大きな保磁力は、基板との熱膨張係数の差による歪みが生じたためと考えられる。

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