Ar＋イオンビーム照射量と基板温度がPTFE表面形態に及ぼす影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 5-P-40

グループ名: 【A】平成28年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2016/09/01

タイトル：Ar^＋イオンビーム照射量と基板温度がPTFE表面形態に及ぼす影響

著者名: 山下 裕貴(工学院大学),鷹野 一朗(工学院大学)

キーワード: PTFE|撥水性|イオンビーム|表面改質

要約(日本語): ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の用途はあらゆる産業分野に広がっており，低摩擦，耐熱性，難燃性，電気絶縁性，耐薬品性，耐候性など優れた特性を有する。このような素材の表面改質は，より高機能な材料の開発へとつながる。本研究ではイオンビーム照射量と基板温度がPTFE表面形態に及ぼす影響を調査した。

PDFファイルサイズ: 463 Kバイト