C2F6ガス中の電子輸送特性

カテゴリ: 部門大会

論文No: 19-E-a2-3

グループ名: 【A】平成29年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2017/09/15

タイトル：C₂F₆ガス中の電子輸送特性

著者名: 畠山 直史(室蘭工業大学),川口 悟(室蘭工業大学),高橋 一弘(室蘭工業大学),佐藤 孝紀(室蘭工業大学)

キーワード: 電子衝突断面積|電子スオーム法|C₂F₆|Monte Carlo simulation

要約(日本語): 従来のC₂F₆ガスの電子衝突断面積セットを吟味するとともに，最近の実験データに従って，解離性電子付着および解離性電離に関する部分断面積を組み入れた断面積セットを推定した．ここで推定した断面積セットを用いて得られた電子ドリフト速度，縦方向拡散係数および実効電離係数の値は実測値と一致し，断面積セットの妥当性が確認された．

PDFファイルサイズ: 542 Kバイト