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Ar/N2混合ガスにおけるガスバッフル付不平衡マグネトロンスパッタ源の放電特性

Ar/N2混合ガスにおけるガスバッフル付不平衡マグネトロンスパッタ源の放電特性

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 19-P-13

グループ名: 【A】平成29年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2017/09/15

タイトル:Ar/N2混合ガスにおけるガスバッフル付不平衡マグネトロンスパッタ源の放電特性

著者名: 三好 邦明(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

キーワード: 不平衡マグネトロンスパッタ|リアクティブスパッタ|直流放電|ガス流れ|チタン|Ar/N2混合ガス

要約(日本語): これまでにArガスをターゲットの中央よりターゲットの表面に向けて供給することで,成膜速度の向上を確認した.この結果から反応性ガス雰囲気下でのスパッタリング放電が安定して発生させることが出来ると考えられる.そこで本研究では真空容器下部より窒素を導入した状態でターゲット中央よりArガスを導入し,Ar/N2混合雰囲気下においてマグネトロン放電を行った.その放電特性について報告を行う.

PDFファイルサイズ: 225 Kバイト

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