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ヒト接着細胞に対する単一ナノ秒パルス電界印加

ヒト接着細胞に対する単一ナノ秒パルス電界印加

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 19-P-21

グループ名: 【A】平成29年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2017/09/15

著者名: 加藤 雄基(金沢工業大学),小林 卓実(金沢工業大学),甲田 忠(末松電子製作所),小木 美恵子(金沢工業大学),會澤 康治(金沢工業大学)

キーワード: パルスパワー|ナノ秒パルス電界|電界印加|接着細胞|生理機能

要約(日本語): 正常なヒト接着細胞に対する単一ナノ秒高電界パルスの印加方法について検討した.今回,培地と導電膜付きガラス基板を入れた汎用キュベットにパルスパワー印加装置を用いて電圧パルス(~20 kV)を印加したときの電流波形や交流インピーダンス特性などを詳細に調べた.また初代培養細胞を播種した基板に対して本方法で約50kV/cmの単一ナノ秒高電界パルスを印加し細胞の生理機能を解析した.

PDFファイルサイズ: 231 Kバイト

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