TiO2/Ni薄膜の光触媒特性における電界印加効果の膜厚依存

カテゴリ: 部門大会

論文No: 19-P-28

グループ名: 【A】平成29年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2017/09/15

タイトル：TiO₂/Ni薄膜の光触媒特性における電界印加効果の膜厚依存

著者名: 瀬川 大志(工学院大学),鷹野 一朗(工学院大学)

キーワード: 光触媒特性|電界印加効果|TiO2

要約(日本語): 近年，TiO₂は様々な特性が注目されており，広い分野で研究がなされている．特に光触媒特性では防汚，抗菌作用などがあり，ビル外壁や手術室の内壁などに応用されている．本研究では，電界印加効果の確認とTiO₂/Ni薄膜の各膜厚を変化させることで，光触媒特性への影響を調査した．

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