電子線照射絶縁材料内に残存する電子正孔対の減衰特性の観測

カテゴリ: 部門大会

論文No: 19-P-31

グループ名: 【A】平成29年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2017/09/15

著者名: 吉田 周吾(東京都市大学),三宅 弘晃(東京都市大学),田中 康寛(東京都市大学)

キーワード: 空間電荷分布測定|電子線|電子正孔対|ETFE|FEP

要約(日本語): 我々は，電子線を照射したETFEおよびFEPに残存する電子正孔対の減衰特性を空間電荷分布を観測することにより評価している．電子線照射試料には多量の電荷が蓄積し，直流電圧を印加すると，これらが分極し，平均電界以上の電界が生じていることを明らかにしてきた．この残存する電子正孔対は照射後，時間が経過するとともに減衰すると考えられるため，本研究では，電子線照射により生成された電子正孔対の減衰特性について検討した．

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