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ダイヤモンド膜生成用誘導熱プラズマ下流の反応チャンバ内における温度場・化学組成場の圧力依存性に対する電磁熱流体解析

ダイヤモンド膜生成用誘導熱プラズマ下流の反応チャンバ内における温度場・化学組成場の圧力依存性に対する電磁熱流体解析

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-D-a1-1

グループ名: 【A】令和元年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2019/08/16

著者名: 畑 和史(金沢大学),荒井 隆志(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),中野 裕介(金沢大学)

キーワード: 誘導熱プラズマ|多結晶ダイヤモンド膜生成|圧力依存性|熱解離|化学気相蒸着法|電磁熱流体解析

要約(日本語): 本論文では, ダイヤモンド膜生成用の誘導熱プラズマ下流における反応容器内の炭素系・炭化水素系ラジカル空間分布を,数値電磁流体解析により求めた.さらに, 基板に照射される各粒子の粒子束の圧力依存性を算出した.圧力は, 熱プラズマ温度およびガス流速に影響をおよぼす極めて重要な物理パラメータである.その結果,低圧力条件の場合に, 基板に照射される炭化水素系ラジカルの粒子束が増えることが示唆された.

PDFファイルサイズ: 365 Kバイト

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