大気圧He/CH4プラズマ特性に及ぼすガス流量による影響の解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 4-D-a1-5

グループ名: 【A】令和元年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2019/08/16

タイトル：大気圧He/CH₄プラズマ特性に及ぼすガス流量による影響の解析

著者名: 木村 勇太(千葉工業大学),小嶋 正宏(千葉工業大学),藤田 諒(千葉工業大学),小田 昭紀(千葉工業大学),太田 貴之(名城大学),上坂 裕之(岐阜大学)

キーワード: 低温プラズマ|大気圧プラズマ|ダイヤモンドライクカーボン|プラズマCVD|シミュレーション

要約(日本語): ダイヤモンドライクカーボンの成膜には, 低圧プラズマCVDが用いられているが,近年, 成膜速度の向上・低コスト化を目的とした大気圧下でのプラズマCVDが研究されている.しかし, 大気圧プラズマの放電メカニズムは未だに未解明なことが多く, 適切な条件を得るまでに至っていない.そこで, 本報告では大気圧He/CH₄プラズマに及ぼすガス流量の影響ついて数値解析を行ったので, その結果およびガス流量とプラズマとの相関について報告する.

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