二重シャッタードリフト装置によるフロン系絶縁ガスの電子輸送係数測定

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-A-a2-5

グループ名: 【A】令和元年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2019/08/16

著者名: 中田 理幸(室蘭工業大学),川口 悟(室蘭工業大学),高橋 一弘(室蘭工業大学),佐藤 孝紀(室蘭工業大学),川野 涼子(三菱電機),吉村 学(三菱電機)

キーワード: 二重シャッタードリフト装置|電子ドリフト速度|縦方向拡散係数|実効電離係数|電子到着時間分布|フロン系絶縁ガス

要約(日本語): SF₆代替ガスとして期待されるフロン系ガスの絶縁特性を解明するため，二重シャッタードリフト装置を用いて電子到着時間分布を測定し，ATS理トンによる解析から実効電離係数，電子ドリフト速度および縦方向拡散係数を算出した．得られた実効電離係数を，従来の測定結果と比較し，実験の信憑性を確認するとともに広範囲の換算電界において各電子輸送係数の測定を行った．

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