擬火花放電プラズマCVD法によるDLC膜特性に及ぼす基板バイアスの効果

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-P-5

グループ名: 【A】令和元年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2019/08/16

著者名: 佐藤 一真(八戸工業高等専門学校),武田 一希(八戸工業高等専門学校),中村 嘉孝(八戸工業高等専門学校),渡部 政行(日本大学),向川 政治(岩手大学),鎌田 貴晴(八戸工業高等専門学校)

キーワード: 擬火花放電プラズマCVD|ラマンスペクトル|ダイヤモンドライクカーボン

要約(日本語): 低気圧大電流放電である擬火花放電(PSD)プラズマCVD法を用いてDLC膜を作製し，成膜速度がおよそ40μm/hに達することを報告した．本発表では膜特性の向上を目的に，基板のバイアス電圧を変化させ，作製した膜のラマンスペクトルのsp³含有率に与える影響を調べるとともに，ラマンスペクトルのベースラインに現れる蛍光成分に対する効果についても調査した．

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