大気圧He/CH4プラズマ特性に及ぼすパルス電圧の繰り返し周波数依存性の数値解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-P-38

グループ名: 【A】令和元年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2019/08/16

タイトル：大気圧He/CH₄プラズマ特性に及ぼすパルス電圧の繰り返し周波数依存性の数値解析

著者名: 小嶋 正宏(千葉工業大学),木村 勇太(千葉工業大学),藤田 諒(千葉工業大学),小田 昭紀(千葉工業大学),太田 貴之(名城大学),上坂 裕之(岐阜大学)

キーワード: 大気圧プラズマ|ダイヤモンドライクカーボンHe/CH4プラズマ|He/CH4プラズマ|パルス電圧

要約(日本語): ダイヤモンドライクカーボンの成膜法のひとつに炭化水素ガスでの大気圧プラズマ CVD 法があるが，使用できるガス種の制限や膜の硬度が低圧下で成膜された膜に比べ低いといった課題がある．解決には大気圧炭化水素プラズマ自体の理解が重要であるが詳細な特性は解明されていない．本研究では，非平衡大気圧He/CH₄プラズマの空間一次元流体モデルを構築し，パルス電圧印加の繰り返し周波数がプラズマ特性に及ぼす影響の解析をした．

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