回転傾斜露光法の加工面積の評価と遺伝子解析チップへの応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: BMS12016

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム研究会

発行日: 2012/06/12

タイトル(英語): Evaluation for Work Area of Rotated/Inclined UV Lithography and its Application for Gene Analysis Chip

著者名: 新田 祐幹(香川大学工学部),鈴木 博之(香川大学工学部),寺尾 京平(香川大学),高尾 英邦(香川大学),下川 房男(香川大学),大平 文和(香川大学),鈴木 孝明(香川大学)

著者名(英語): Nitta Yuki(Kagawa University),Suzuki Hiroyuki(Kagawa University),Terao Kyohei(Kagawa University),Takao Hidekuni(Kagawa University),Simokawa Fusao(Kagawa University),Oohira Fumikazu(Kagawa University),Suzuki Takaaki(Kagawa University)

キーワード: 遺伝子解析チップ|ＤＮＡ|染色体|フォトリソグラフィ|ＦＩＳＨ|Gene Analysis Chip|DNA fiber|Chromosome|Photolithography|FISH

要約(日本語): 染色体の解析技術として、我々は、染色体懸濁液をチップ上に滴下し、遠心力を用いて伸張する方法を提案し、高分解能、短時間解析の実現を目的としている。今後の分解能向上のためには、より染色体を長く伸ばすことの可能な、大型化デバイスを作製する必要がある。そこで本研究では、本デバイスの加工法である回転傾斜露光法の加工精度評価を行い、大型化デバイスを作製し、染色体の伸張条件を評価した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 889 Kバイト