金属被覆DNAナノワイヤのインピーダンス評価とAFM観察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: BMS14022

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム研究会

発行日: 2014/05/28

タイトル(英語): Impedance Evaluation and AFM Observation of Metallized DNA Nanowires

著者名: 氷室 貴大(九州工業大学),荒木 遼(九州工業大学),池堂 英幸(九州工業大学),佐藤 しのぶ(九州工業大学),竹中 繁織(九州工業大学),安田 隆(九州工業大学)

著者名(英語): Takahiro Himuro(Kyushu Institute of Technology),Ryo Araki(Kyushu Institute of Technology),Hideyuki Ikedo(Kyushu Institute of Technology),Shinobu Sato(Kyushu Institute of Technology),Shigeori Takenaka(Kyushu Institute of Technology),Takashi Yasuda(Kyushu Institute of Technology)

要約(日本語): 電極間に2本鎖DNAを伸長固定し，還元基修飾インターカレータをDNAに挿入後，銀イオンの還元によりDNAを金属被覆することでナノワイヤを形成した．本手法が2本鎖のみを特異的に金属被覆できることを実証するために，金属被覆操作を2本鎖と1本鎖それぞれに対して行い，インピーダンス評価とAFM観察を行った．2本鎖の場合にのみ，外径15nm程度のナノワイヤが形成され，導電性が約10000倍に上昇した．

要約(英語): We demonstrated that the DNA metallization technique using reducing group-labeled intercalator molecules permits dsDNA (double-stranded DNA) molecules to be specifically metallized while not permitting metallization of ssDNA (single-stranded DNA) molecules. By using this technique, we succeeded in formation of nanowires having average diameter of about 15 nm.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,926 Kバイト