析出反応による埋植用金属電極の性能向上法
析出反応による埋植用金属電極の性能向上法
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: BMS16056
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム研究会
発行日: 2016/12/21
タイトル(英語): Performance enhancement methods via deposition reaction for implantable metal electrode
著者名: 田代 洋行(九州大学),寺澤 靖雄(ニデック),桑原 真理子(九州大学),吉村 優里奈(九州大学),中野 由香梨(ニデック),大澤 孝治(ニデック),野田 俊彦(奈良先端科学技術大学院大学),徳田 崇(奈良先端科学技術大学院大学),太田 淳(奈良先端科学技術大学院大学)
著者名(英語): Hiroyuki Tashiro(Kyushu University),Yasuo Terasawa(Nidek Co., Ltd.),Mariko Kuwabara(Kyushu University),Yurina Yoshimura(Kyushu University),Yukari Nakano(Nidek Co., Ltd.),Koji Osawa(Nidek Co., Ltd.),Toshihiko Noda(Nara Institute of Science and Technology),Takashi Tokuda(Nara Institute of Science and Technology),Jun Ohta(Nara Institute of Science and Technology)
キーワード: ナノ構造白金|析出反応|刺激電極|埋植電極|電荷注入能力|ニューラルインターフェース|nanostructured platinum|deposition|stimulation electrode|implantable electrode|charge injection capacity|deirect neural interface
要約(日本語): 生体埋植用刺激電極の性能を簡易にポストプロセスで向上させる方法、およびその効果の大きさについて電荷注入能力で評価した結果を報告する。
要約(英語): We study easy methods for performance enhancement of implantable stimulation electrode. We evaluated effectiveness of the method by using measurement of charge injection capacity.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 2,993 Kバイト
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