エラストマーナノ薄膜のドライ転写を用いたMEMS光干渉型表面応力センサ

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: BMS17024

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム研究会

発行日: 2017/06/30

タイトル(英語): An elastomer-based MEMS optical interferometric surface-stress sensor developed by dry transfer technique

著者名: 髙橋 一浩(豊橋技術科学大学),藤枝 俊宣(早稲田大学),佐藤 信孝(早稲田大学),武岡 真司(早稲田大学),澤田 和明(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Kazuhiro Takahashi(Toyohashi University of Technology),Toshinori Fujie(Waseda University),Nobutaka Sato(Waseda University),Shinji Takeoka(Waseda University),Kazuaki Sawada(Toyohashi University of Technology)

キーワード: 光干渉計|エラストマー|表面応力センサ|抗原抗体反応|ドライ転写|optical interferometer|elastomer|surface stress sensor|antigen-sntibody reaction|dry transfer

要約(日本語): 本研究ではMEMS光干渉型表面応力センサのストレス感度を向上させるために，低ヤング率材料のエラストマーナノ薄膜を用いたセンサを作製することを目的とする。膜厚600 nmのエラストマーナノ薄膜をシリコン基板上にドライ転写し，最小120 nmのエアギャップをもつ光干渉計を作製した。ナノ薄膜自立構造上にアルブミン抗体を静電吸着し，パリレンCを用いた従来構造と比較して10倍以上のストレス感度を実証した。

要約(英語): We developed an elastomer-based Fabry-Perot interferometer with 120-1080 nm gap between a freestanding thin film and a substrate using dry transfer technique. We demonstrated the spectrum shift associated with the nanomechanical motion of the dry-transferred freestanding elastomer nanosheet with immobilized anti-BSA.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,244 Kバイト