AFMリソグラフィーで作製したナノ領域へのDNAオリガミの特異的固定

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: BMS18035

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム研究会

発行日: 2018/07/13

タイトル(英語): Specific Binding of DNA Origami on a Nanoscale Pattern Formed by AFM Lithography

著者名: 山下 直輝(京都大学),朴 晟洙(京都大学),馬 志鵬(浙江大学),川合 健太郎(大阪大学),平井 義和(京都大学),土屋 智由(京都大学),田畑 修(京都大学)

著者名(英語): Naoki Yamashita(Kyoto University),Seongsu Park(Kyoto University),Zhipeng Ma(Zhejiang University),Kentaro Kawai(Osaka University),Yoshikazu Hirai(Kyoto University),Toshiyuki Tsuchiya(Kyoto University),Osamu Tabata(Kyoto University)

キーワード: ＤＮＡオリガミ|ＡＦＭリソグラフィー|固定化|相補結合|非特異吸着|一本鎖ＤＮＡ|DNA origami|AFM lithography|Immobilization|Complementary binding|Nonspecific adsorption|ssDNA

要約(日本語): EB露光を必要としないナノ構造の集積化によるMEMSの機能付加手法として，数nmの位置精度でDNAオリガミ（DO）をシリコンに固定化する手法が有望である．本報告では，AFMリソグラフィーでシリコン上に作製した微細パターンを一本鎖DNAで修飾し，DOに付加した相補的一本鎖DNAとの結合を利用してDOを固定化する手法において，固定化率を向上しかつパターン外への非特異吸着を低減する手法を提案する．

要約(英語): For functionalization of MEMS by integration of nanostructures without utilizing EB lithography, immobilization of DNA origami on silicon with high position accuracy is promising. In this report, we propose a method to realize higher yield of specific binding of DNA origami to nanoscale patterns formed by AFM lithography, where the DNA origami and nanoscale patterns are modified with complementary pair of single stranded DNAs.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,958 Kバイト