Ar-CO2誘導熱プラズマ温度分布へのH2およびO2添加効果の数値解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 136

グループ名: 【B】平成16年電気学会電力・エネルギー部門大会講演論文集

発行日: 2004/08/05

タイトル：Ar-CO₂誘導熱プラズマ温度分布へのH₂およびO₂添加効果の数値解析

タイトル(英語): Effect of Additional H₂ and O₂ on Temperature Field in Ar-CO₂ Induction Thermal Plasmas

著者名: 田中 康規(金沢大学),岡田 健志(金沢大学),大西 徳和(金沢大学),内山 博史(金沢大学),金子 周平(東京電力),岡部 成光(東京電力)

著者名(英語): Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Takeshi Okada(Kanazawa University),Norikazu Onishi(Kanazawa University),Hiroshi Uchiyama(Kanazawa University),Shuhei Kaneko(Tokyo Electric Company),Shigemitsu Okabe(Tokyo Electric Company)

キーワード: 誘導熱プラズマ|SF₆代替ガス|消弧媒体|遮断器|アブレーション|Induction Thermal Plasma|Alternatives for SF₆|Arc-Quenching medium|Circuit Breaker|Ablation

要約(日本語): 現在,SF6が遮断器の消弧媒体として利用されているがSF6は温室効果が大きいため,その代替ガスの使用が検討されている。その候補としてCO2が考えられている。このCO2の遮断能力を向上するために高分子材料のアブレーション技術も検討されている。この高分子材料のアブレーション技術は配線用遮断器にも応用されており,その現象把握が重要な課題となっている。本報告では誘導熱プラズマ手法を用いてCO2にH2,O2が混合した場合のガスの熱プラズマ冷却能力を電磁熱流体解析により検討し,H2,O2が混入することでCO2の熱プラズマクエンチング能力が小さくなることを推定している。

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