真空中におけるCuCr接点のCr含有量が遮断性能および耐電圧性能に及ぼす影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 283

グループ名: 【B】平成23年電気学会電力・エネルギー部門大会講演論文集

発行日: 2011/08/30

タイトル(英語): Influence on Breakdown and Interruption Performance of CuCr Contact in Vacuum

著者名: 佐藤純一 (東芝),塩入 哲(東芝),浅利 直紀(東芝),丹羽 芳充(東芝),久保田 信孝(東芝),捧 浩資(東芝),栗山 透(東芝),鈴木 克巳(東芝),本間三孝 (東芝)

著者名(英語): Junichi Sato(Toshiba corporation),Tetsu Shioiri(Toshiba corporation),Naoki Asari(Toshiba corporation),Yoshimitsu Niwa(Toshiba corporation),Nobutaka Kubota(Toshiba corporation),Kosuke Sasage(Toshiba corporation),Toru Kuriyama(Toshiba corporation),Katsumi Suzuki(Toshiba corporation),Mitsutaka Homma(Toshiba corporation)

キーワード: 真空バルブ|ＣｕＣｒ接点|遮断|絶縁破壊|真空遮断器|Vacuum Interrupter|CuCr Contact|Interruption|Breakdown|Vacuum Circuit Breaker

要約(日本語): 本論文は、真空バルブに適用するCuCr接点のCr含有量を変化させ、耐電圧性能および遮断性能を調査した結果について述べる。

PDFファイルサイズ: 1,503 Kバイト