組成傾斜薄膜を用いた耐電圧特性評価手法の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 286

グループ名: 【B】平成23年電気学会電力・エネルギー部門大会講演論文集

発行日: 2011/08/30

タイトル(英語): Development of the Breakdown Testing Method Used the Compositionally Graded Thin-Film

著者名: 佐々木 遥(東芝),山本 敦史(東芝),草野 貴史(東芝),浅利 直紀(東芝)

著者名(英語): Yo Sasaki(Toshiba corporation),Atsushi Yamamoto(Toshiba corporation),Takashi Kusano(Toshiba corporation),Naoki Asari(Toshiba corporation)

キーワード: 真空バルブ|真空遮断器|ＣｕＣｒ接点|組成傾斜薄膜|Vacuum Interrupter|Vacuum Circuit Breaker|CuCr contact|Compositionally graded thin-film

要約(日本語): 本論文は、薄膜の面方向に組成が連続的に変化する組成傾斜薄膜を用いた耐電圧特性評価手法について検討した。真空バルブで用いられるＣｕ－Ｃｒ系２元系組成傾斜薄膜において評価した結果について述べる。

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