真空アークにおける酸化膜蒸気混入が及ぼす陰極点の移動軌跡の変化

カテゴリ: 部門大会

論文No: P23

グループ名: 【B】平成25年電気学会電力・エネルギー部門大会

発行日: 2013/08/27

タイトル(英語): Change of Movement Track of Vacuum Arc Cathode Spot Affected by Vapor from Oxide Layer

著者名: 岩尾 徹(東京都市大学),山本 真司(東京都市大学),湯本 雅恵(東京都市大学)

著者名(英語): Toru Iwao(Tokyo City University),Shinji Yamamoto(Tokyo City University),Motoshige Yumoto(Tokyo City University)

キーワード: 真空アーク|陰極点|表面処理|金属蒸気|画像処理|Vacuum Arc|Cathode Spot|Surface Treatment|Metal Vapor|Image Processing

要約(日本語): 真空アーク陰極点は，陰極点が陰極表面を高速に動きながら金属上の酸化膜を除去することができる。しかし，真空アーク陰極点による酸化膜の除去過程は未解明である。本論文では，酸化膜の除去過程の解明を目的として，真空アークにおける酸化膜蒸気混入が及ぼす陰極点の移動軌跡の変化の検討を行った。

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