細孔バルク体における細孔の位置が捕捉磁場特性に及ぼす影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 371

グループ名: 【B】平成27年電気学会電力・エネルギー部門大会

発行日: 2015/08/26

タイトル(英語): Influence of a holed position on trapped field performance in a holed bulk superconductor

著者名: 横山 和哉(足利工業大学),クラワンシャ エランダ(足利工業大学),趙 元鼎(足利工業大学),岡 徹雄(新潟大学)

著者名(英語): Kazuya Yokoyama(Ashikaga Institute of Technology),Kulawansha Eranda(Ashikaga Institute of Technology),Yuanding Zhao(Ashikaga Institute of Technology),Tetsuo Oka(Niigata University)

キーワード: 超伝導バルク体|細孔|パルス着磁|磁束フロー|bulk superconductor|small hole|pulsed field magnetization|flux flow

要約(日本語): 超伝導バルク体の大型化・高特性化に伴い，パルス磁化法による大きな磁場の捕捉が難しくなりつつある。これまでにパルス着磁を容易にするため，バルク体に細孔を開けた試料を考案して，細孔の大きさや個数を変えた実験を行ってきた。その結果，低印加磁場で磁束侵入が容易になること，及び高印加磁場で磁束フローが抑制されることなどを明らかにした。現在は磁場捕捉後のことを考慮して特性の高い部分はそのままにしておき，特性の低い結晶成長領域に細孔を加工した。本文では特性の高い結晶成長境界に細孔を加工し，これまでの実験結果と比較することで着磁効率等について評価する。

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