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セルにおけるホットスポットの発生と推移
セルにおけるホットスポットの発生と推移
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カテゴリ: 部門大会
論文No: 131
グループ名: 【B】平成28年電気学会電力・エネルギー部門大会
発行日: 2016/09/05
タイトル(英語): Occurrence of hot spots and change in the cell.
著者名: 竹下 隆一朗(名城大学),山中 三四郎(名城大学)
著者名(英語): Ryuichiro Takeshita|Sanshiro Yamanaka
キーワード: ホットスポット|バイパスダイオード|I-V特性|熱画像,Hot spot,Bypass diode,I-V characteristics,Thermal image
要約(日本語): 近年、太陽光発電システムにおける問題が多数報告されている。その中の一つにホットスポットがある。ホットスポットとはセルの一部分が数百度になるという現象であり、ホットスポットの発生したセルを見ると複数ヶ所に痕跡が残っていることが多い。そこで今回の実験ではホットスポットの発生とその損傷をI-Vカーブと熱画像を用いて検討を行った。その結果ホットスポットは同時に2個所以上で発生することはなく、1個所ずつ順に発生していくことが明らかになったので報告する。
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