低圧高周波Ar/CH4プラズマCVDによるDLC成膜メカニズムの解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-B-a1-2

グループ名: 【A】令和2年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2020/09/01

著者名: 石井 晃一(千葉工業大学), 小川 慎(千葉工業大学), 小田 昭紀(千葉工業大学)

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