変調誘導熱プラズマによる生成Si/Cナノ粒子へのクエンチングガスの間歇導入とその導入時間位相の影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-B-p1-4

グループ名: 【A】令和2年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2020/09/01

著者名: 明石 恵太(金沢大学), 古川 颯大(金沢大学), 田中 康規(金沢大学), 中野 裕介(金沢大学), 石島 達夫(金沢大学), 中村 圭太郎(日清製粉グループ本社), 渡邉 周(日清製粉グループ本社), 末安 志織(日清製粉グループ本社)

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