低環境負荷な物理蒸着法によるフッ素系高分子薄膜の形成

カテゴリ: 部門大会

論文No: 1-A-p1-3

グループ名: 【A】令和3年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2021/09/01

著者名: 安井 爽眞（東京農工大学）, 大石 不二夫（神奈川大学）, 臼井 博明（東京農工大学）

キーワード: 物理蒸着|フッ素系高分子|低屈折率|低表面エネルギー

要約(日本語): フッ素系高分子薄膜は、次世代の有機エレクトロニクス・オプティクスデバイスの表面コーティングとして特異な性質が期待される。しかしながらこれまでのフッ素系高分子薄膜は、熱焼結による粗な膜形成、あるいはハロゲン系の有害な溶媒を用いたウェットコーティングが用いられ、SDGの観点からは課題が多い。そこで本研究では環境負荷が低いと期待される物理蒸着法を用い、テフロンAF(R)の薄膜を形成した。得られた薄膜は屈折率が約1.3、対水接触角約110°であり、低光反射かつ防汚性を兼ね備えた柔軟なコーティングとして有用な特性を示した。さらに、製膜時のイオン照射により、膜の機械的強度を改善できることが見いだされた。

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