任意交差角 RF 電界直流磁界下の F2中電子平均速度ベクトル周期応答

カテゴリ: 部門大会

論文No: 1-B-p1-5

グループ名: 【A】令和3年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2021/09/01

著者名: 中田 裕也（北海道大学）, 菅原 広剛（北海道大学）

キーワード: 誘導結合磁化プラズマ|電子ドリフト速度|モンテカルロシミュレーション|衝突周波数|電磁界交差角|一定衝突周波数近似

要約(日本語): RF電界直流磁界下で駆動する低圧高密度の誘導結合磁化プラズマは磁界による制御性から材料プロセスへの応用が期待される。同プラズマ中の電子輸送特性に関する先行研究では実ガス中の直交電磁界下電子平均速度Wが楕円ベクトル軌跡を描くことが示されている。本稿ではモンテカルロシミュレーションにより電磁界交差角0～90度におけるF2中のWを計算した。F2はある電界範囲で電子衝突周波数が大きく変わらないことから一定衝突周波数(CCF)近似理論モデルとの比較による検証に適する。Wは直交電磁界下と同様に楕円ベクトル軌跡を描いた。楕円ベクトル軌跡を含む平面は電磁界交差角の変化に伴い傾きを変え、その傾向はCCFモデルとよく一致した。

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