コイル電流変調と急冷ガス間歇導入とを組み合わせた変調誘導熱プラズマの変動温度場と生成ナノ粒子分布解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-B-a1-5

グループ名: 【A】令和3年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2021/09/01

著者名: 古川 颯大（金沢大学）, 長瀬 有理奈（金沢大学）, 田中 康規（金沢大学）, 中野 裕介（金沢大学）, 石島 達夫（金沢大学）, 末安 志織（日清製粉グループ）, 渡邉 周（日清製粉グループ）, 中村 圭太郎（日清製粉グループ）

キーワード: 変調熱プラズマ|ナノ粒子生成|電磁熱流体解析|冷却ガス間歇供給|コイル電流変調

要約(日本語): 現在,リチウムイオン電池(LIB) の負極材料として高容量を持つSiが注目されている.Siを用いたLIBの低サイクル寿命の課題に対しSiのナノ粒子化による解決策があるが,Siナノ粒子の大量生成法は確立されていない.筆者らはこれまでに,ナノ粒子の大量生成手法としてパルス変調型誘導熱プラズマ(PMITP) および原料間歇供給(TCFF) を開発し,実験的に高い生成効率を実現している.本検討では,このPMITP+TCFFに加え,急冷ガス(QG)を下流に間歇導入する手法を数値解析的に検討した.コイル電流変調位相に対しQG導入位相差を様々に設定することで,時空間的に形成される変動温度場を変更し,温度分布やナノ粒子分布解析からより高効率なナノ粒子生成に適した条件を評価した.

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