キャビテーションプラズマ連続発生回数のパルス電圧繰り返し周波数依存性

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-B-a2-5

グループ名: 【A】令和3年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2021/09/01

著者名: 岡田 翔（兵庫県立大学）, 上田 唯人（兵庫県立大学）, 森岡 慧（兵庫県立大学）, 岡 好浩（兵庫県立大学）, 上野 秀樹（兵庫県立大学）

キーワード: キャビテーションプラズマ|液中プラズマ|キャビテーション気泡|繰り返し周波数|低温プラズマ|連続放電

要約(日本語): キャビテーションプラズマ(CBP)は液中プラズマの一種であり、高効率にプラズマを生成することが可能である。しかし、高導電率溶液中ではプラズマ発生率が低下するため、高い処理効率の実現には高いプラズマ発生率の維持が必要である。CBPは一度プラズマが生成されると、パルス電圧を印加する毎にプラズマの発生と消滅を連続的に繰り返すことが知られており、プラズマの連続発生回数がプラズマ発生率に及ぼす影響は大きい。そこで、印加するパルス電圧の繰り返し周波数が連続放電回数に及ぼす影響について統計的に調査した。繰り返し周波数の増加とともに連続放電回数は増加し、200 kHz印加時には200~250回の連続放電が最も多く発生していることが分かった。

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